紫外線高級還原工藝（UV-ARPs）利用紫外光照射亞硫酸根等前體物，產生水合電子（e??q，還原電位-2.9V）和氫自由基（H·，還原電位-2.3V），通過還原反應降解氧化法難以處理的還原性污染物，如全氟化合物（PFCAs），實現脫鹵或礦化。

一、高級還原工藝是氧化工藝的重要補充

紫外線高級還原工藝為處理傳統氧化工藝難以解決的還原性污染物提供了可能。UV-ARPs利用紫外光照射產生強還原性活性中間體，主要是水合電子（e??q）和氫自由基（H·），通過還原反應來降解目標污染物。具體過程是利用無機陰離子（如亞硫酸根離子SO?2?、碘離子I?等）作為前體物，這些陰離子在紫外光照射下，通過電荷轉移至溶劑機制，將一個電子釋放到周圍的水分子籠中，形成水合電子和相應的自由基。水合電子和氫自由基是很強的還原劑，其標準還原電位分別為-2.9 V和-2.3 V。

二、高級還原工藝的動力學特征

紫外線高級還原工藝的動力學遵循與紫外線高級氧化工藝類似的鏈式反應網絡和穩態模型。

目標污染物的還原降解速率通常可描述為準一級動力學。例如，全氟化合物在UV/S(IV)工藝中的衰減和脫氟過程，就證明了該工藝的一級動力學反應特征。

紫外線高級還原工藝的主要影響因素是前體物的形態與pH值。是常用的前體物是四價硫化合物（S(IV)），pH值通過影響這些活性前體物的濃度，直接決定了水合電子等還原性中間體的生成效率。在最佳pH條件下，前體物主要以高光解活性的形態存在。

該工藝的效率由前體物的光解動力學和復雜的還原性鏈式反應網絡共同決定。通常，它需要無氧環境以保護還原性中間體，且反應網絡較為復雜。

安力斯環境通過技術創新和工藝優化，已在特定應用場景中成功實現了UV-ARPs的工程化應用。特別是在全氟化合物等新興難降解污染物的治理方面，該技術展現出獨特優勢，為我國新污染物治理提供了新的技術選擇。